惡臭治理設(shè)備介紹

 

目前惡臭治理設(shè)備主要包括活性炭吸附設(shè)備、等離子體凈化設(shè)備、催化燃燒設(shè)備和uv光解凈化設(shè)備。下面介紹惡臭治理設(shè)備。

 

1.活性炭吸附設(shè)備

 

吸附劑(活性炭、硅膠、分子篩等)的高效吸附性能。)廢氣中的有機(jī)成分被用來凈化通過吸附層后的廢氣。*常用吸附技術(shù)中使用的吸附介質(zhì)為活性炭(棒狀或顆粒狀活性炭)。吸附法凈化效率高(隨著吸附劑的飽和，凈化效率逐漸降低)，運(yùn)行成本高(更換吸附劑的成本很高)，投資成本低，固體廢物對環(huán)境的二次污染。目前主要用于***風(fēng)量、低濃度(≤800mg/m3)、無顆粒物、無粘性物質(zhì)、常溫的有機(jī)廢氣凈化。

 

2.低溫等離子設(shè)備

 

在介質(zhì)阻擋放電過程中，等離子體中產(chǎn)生了電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等具有高化學(xué)活性的粒子。廢氣中的污染物與這些活性基團(tuán)發(fā)生高能反應(yīng)，***終轉(zhuǎn)化為CO2和H2O，從而達(dá)到凈化廢氣的目的。目前市場上很多低溫等離子體名義上是電力廢氣，實(shí)際上是電離空氣產(chǎn)生臭氧，利用臭氧的強(qiáng)氧化性進(jìn)行廢氣處理。低溫等離子體的放電效果與空氣濕度有很***關(guān)系。濕度越高，能量消耗越***，水分子會吸收***量能量，從而降低電離效應(yīng)。采用低溫等離子體處理廢氣，廢氣直接通過排放系統(tǒng)，給易燃易爆氣體帶來很***的安全隱患，容易引發(fā)火災(zāi)等重***安全事故。

 

3.催化燃燒廢氣處理設(shè)備

 

燃燒法只是在高溫和充足的空氣中完全燃燒揮發(fā)性有機(jī)物，并將其分解成CO2和H2O。燃燒法適用于各種有機(jī)廢氣，可分為直接燃燒、熱燃燒和催化燃燒。

 

排放濃度***于5000mg/m的高濃度廢氣一般采用直接燃燒法，其中以VOCs廢氣為燃料進(jìn)行燃燒，燃燒溫度一般控制在1100℃，處理效率高，可達(dá)95%-99%。

 

熱燃燒法適用于處理濃度為1000-5000 mg/m的廢氣，采用熱燃燒法，廢氣中的VOCs濃度較低，需要其他燃料或助燃?xì)怏w。熱燃燒所需的溫度低于直接燃燒所需的溫度，約為540-820℃。燃燒法對VOCs廢氣處理效率高，但如果VOCs廢氣中含有S、N等元素，廢氣燃燒后直接排放會導(dǎo)致二次污染。

 

4.uv光解凈化設(shè)備

 

uv光解廢氣處理技術(shù)是指利用高能紫外光束分解空氣中的氧分子，生成游離氧(即活性氧)，由于游離氧攜帶的正負(fù)電子不平衡，需要與氧分子結(jié)合，進(jìn)而生成臭氧，臭氧具有很強(qiáng)的氧化性。有機(jī)廢氣和惡臭氣體通過臭氧協(xié)同光解氧化降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳。