低溫等離子惡臭治理設(shè)備的技術(shù)原理和性能***點(diǎn)

 

 　　現(xiàn)如今各種環(huán)保設(shè)備的使用比較普遍，低溫等離子惡臭治理設(shè)備便是其中之一，在使用過(guò)程中表現(xiàn)出什么***點(diǎn)？低溫等離子惡臭治理設(shè)備的技術(shù)原理是什么？帶著這些疑問(wèn)，為咱們具體回答如下。

　　低溫等離子惡臭治理設(shè)備簡(jiǎn)介：

　　1、低溫等離子惡臭治理設(shè)備中的介質(zhì)阻撓放電的過(guò)程中，等離子體內(nèi)部發(fā)生富含極高化學(xué)活性的粒子，如電子、離子、臭氧和激起態(tài)分子等，理論上VOCs與這些具有較高能量的活性基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)，部分會(huì)被裂解，終轉(zhuǎn)化為二氧化碳和水等物質(zhì)，然后到達(dá)凈化廢氣的意圖。

　　2、低溫等離子惡臭治理設(shè)備在顯微鏡下，因?yàn)榉烹娺^(guò)程僅添加電子溫度而且離子溫度基本堅(jiān)持不變，因而反應(yīng)體系可以堅(jiān)持在低溫，而且低溫等離子惡臭治理設(shè)備具有高能量使用率。而且設(shè)備保護(hù)本錢(qián)也很低。

　　3、低溫等離子惡臭治理設(shè)備電子***先從電場(chǎng)取得能量，經(jīng)過(guò)激起或電離將能量傳遞給分子或原子，而且取得能量的分子或原子被激起，而且一些分子被電離成為活性基團(tuán);然后這些活性基團(tuán)和分子或原子、反應(yīng)基團(tuán)和反應(yīng)基團(tuán)彼此磕碰構(gòu)成安穩(wěn)的產(chǎn)品和熱量使用排氣設(shè)備將有機(jī)氣體輸入凈化設(shè)備后，使用高能紫外線(xiàn)光束和臭氧協(xié)同分化和氧化有機(jī)(氣味)氣體，使有機(jī)氣體物質(zhì)降解為低分子量化合物、水和二氧化碳，然后經(jīng)過(guò)。排氣管排出到外面。在毫秒時(shí)刻內(nèi)，立即對(duì)有害廢氣分子進(jìn)行氧化復(fù)原反應(yīng)，廢氣中的一小部分污染物被降解為二氧化碳和水以及易于處理的物質(zhì)。

　　低溫等離子惡臭治理設(shè)備的技術(shù)原理：

　　高能離子空氣凈化體系選用正負(fù)雙極電離技術(shù)。在電場(chǎng)的效果下，離子發(fā)生器發(fā)生很多的粒子，而且粒子與空氣中的氧分子磕碰以構(gòu)成正負(fù)氧離子。正氧離子具有很強(qiáng)的氧化性能，可以在很短的時(shí)刻內(nèi)氧化分化污染因子，并在與VOC分子觸摸后翻開(kāi)有機(jī)揮發(fā)性氣體的化學(xué)鍵。該反應(yīng)發(fā)生安穩(wěn)且無(wú)害的小分子，如二氧化碳和水。